石油化工副产物氯化氢提纯法

    淄博言赫特气有限公司的电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产，经北京市科委鉴定，主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。

    电子及氯化氢在我们生活的各个领域中具有广泛的应用前景，它不仅是电子工业中制造大规模集成电路所需的重要材料之一，而且应用于医药、化工、半导体行业，因此需求量越来越大。 
    目前已有研究人在研究制备过程中成功合成了电子级氯化氢，同时从这些合成方法中发现解析法和盐酸脱析法制备氯化氢工艺简单可大规模生产，但是制备的氯化氢纯度偏低，越来越不满足电子工业，尤其是集成电路的要求。合成法生产氯化氢的纯度偏高，但其中水量高，腐蚀严重，对设备要求高，生产成本高。考虑到环保以及工业副产品回收利用等多方面因素，制备高纯度氯化氢的合成是必然的发展趋势，正如石油化工副产物氯化氢提纯法。此提纯法无需外加反应介质，因而避免了其它杂质介质的引入，而且操作简单，生产成本低，但是在我国技术还不太成熟。我国的电子级氯化氢产品大多从美，日等国进口，价格昂贵。因此我们需要进一步研究与完善电子级氯化氢的合成工艺，给我国带来一定可观的社会效应和经济效益。

    我公司5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用，制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。